在日常接触的电器产品里面使用着大量半导体和其他部品，我们通过这些部件来控制电器产品。在这些部品里面画有非常复杂的几何模样的薄膜。这些薄膜就是我们所说的记忆素子和传感器。薄膜的模样由数百微米到0.1微米大小的图样构成，而制作这些模样的薄模时使用“光掩模”是必不可少的。
光掩模是一种选择光线透过的必要工具。制作光掩模不仅需要庞大的设备投资，而且还要有熟练的操作和高度的技术力量。日本辉尔康公司从1985年开始生产光掩模，目前使用我们制造的光掩模所制造出来的各式各样的半导体部件，电子部件广泛应用在各行业上。
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光掩模是一种选择光线透过的必要工具。制作光掩模不仅需要庞大的设备投资，而且还要有熟练的操作和高度的技术力量。日本辉尔康公司从1985年开始生产光掩模，目前使用我们制造的光掩模所制造出来的各式各样的半导体部件，电子部件广泛应用在各行业上。
