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資料轉換（CAD製程） |
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可對應與製作光罩相關的絕大部分資料格式。不論是客供圖面，或是CAD編輯，我們都可應客戶需求作迅速的對應。 |
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GDSⅡ |
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MEBES |
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DXF |
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DWG |
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GERBER |
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圖形描繪 |
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光罩尺寸從半導體相關的4"ｘ 4"，最大到電路基板，顯示相關的800mmx920mm 都可製作。敝公司擁有多台雷射描繪機，在曲線與斜線的表現上優於同業。尤其是在4"～6"的半導體用光罩，7"或9"光罩的CD線性?CD均勻性，與座標位置精度上都有高性能的表現。 |
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測量 |
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敝公司擁有半導體業界標準的測量機。不論描繪精度如何精良，角度如何銳利，如果沒有檢測的設備，還是沒有做到品質的保證。敝公司有Nikon Laser X-Y、LEICA等測量機，可提供高信賴性的光罩。 |
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檢查 |
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以光學式自動檢查系統進行圖形鄰接比較-Die to Die、DATA比較-Die to Data的檢查。圖形的缺陷可辨識到亞微米的程度。 |
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複製子片 |
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提供從敝公司製作的母片上複製子片的服務。敝公司的複製子片在日本國內半導體相關業界裡維持第一位的市佔率。 |
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設計DATA復元服務 |
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提供攝影光罩的圖像，從圖像上復原設計的圖面資料服務。有光罩但是沒有設計圖面，或是沒辦法讀設計圖檔的情況的話，請利用我們這個服務。 |
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光罩尺寸 4" ～ 9" |
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圖形線寬 3 μm 以上 |
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復元誤差 ±0.3μm ( 對光罩誤差 ) |
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輸出資料格式 GDSⅡ |
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