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データ作成（CAD工程） |
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作成パターンをデータでいただく場合、全体データをＧＤＳ－Ⅱ（ストリーム・フォーマット）でいただくか単品データ（メイン、アライメント、モニター等）をいただければレイアウト設計もいたします。もちろん、図面をご支給いただき全面にレイアウト設計することも可能です。
また、ＥＢデータではなくＧＤＳ－Ⅱ（ストリーム・フォーマット）から描画装置に直接描画できますのでデータ変換の費用が節約できます。
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| ■ | MEBES |
| ■ | GDS-Ⅱ（ストリーム・フォーマット） |
| ■ | DXFデータ |
| ■ | ガーバー、拡張ガーバー |
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E－mail |
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FTP |
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その他メディア |
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図面 |
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パターン作成（描画工程） |
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お客様からいただいたパターンを当社CADにて描画用のデータに変換いたします。更に変換されたパターンデータを基に使用する描画装置に適したフォーマットに変換し、クロムマスクに描画します。描画終了後、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程、洗浄工程を通してフォトマスクとしての第一段階を終了します。 |
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レーザーフォトプロッター |
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レーザービームを使用しクロムブランクスに直接描画。4～9"のブランクスへの描画可能（描画エリアはガラス端面より5mm以内）。描画用データはGDS－Ⅱ（ストリーム）が標準。当装置はレーザービーム使用の特徴で描画用データにソフト上でグラデーション処理を行っております。この効果によりEB（電子ビーム）露光機ではビーム径により階段形状となるカーブ形状がほぼパターンデータ通りの形状でできあがります。また、ピッチインクリメントも細かく設定できます。さらに描画の均一性が良いので表示素子の目視むらも少なく描けます。 |
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基本検査 |
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マスクの基本的な検査事項で、基板材質、マスク名称、図柄、配置、膜面関係、傷、パターンエッジ等の検査が含まれます。 |
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微小寸法検査 |
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使用装置 微小寸法測定器
光学顕微鏡と微小スリットの組み合わせで測定するもので、光学的に拡大された画像のエッジ部を微小スリットで走査し、その透過率の変化を自動測定します。 |
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絶対寸法検査 |
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使用装置 光波干渉式座標測定機
レーザースポットをマスクに照射してパターンエッジの散乱光を検出することにより､パターン位置座標、ピッチ寸法、微小線幅などを自動測定します。
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欠陥検査 |
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使用装置 自動欠陥検査装置
・Die to Die
・Mask to Mask
・DateBase to Die |
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使用装置 |
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クロムブランクスをマスターマスクに全面密着させて一括露光します |
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